「NANO SURF STUDY」の新たな追加・更新点について
セミコン・ジャパン2011およびインターネプコン2012にて、
ご好評を頂いたSiCウェハ加工の基礎研究成果「NANO SURF STUDY」。
現在、ナガセでは本格的なSiCパワー半導体の量産化に向けて、
ウェハの薄化やチップ化工程に関する次なる成果発表の準備をしております。
上記の発表会以来も、数多くのことが分かってきました。
お問合せ頂いた方には、詳細な情報をお伝えさせて頂きます。
主要なところでは、次の点が更新されています。
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「NANO SURF STUDY」に新たに追加・更新されていること(2012.03.26時点)
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(1)超精密グラインダー「NSF-600」を用いた4インチ3枚貼り加工の結果から、
6インチSiC1枚加工時の加工精度、能率、コストを試算しています。
(2)ウェハ薄化加工時時のソリ量を抑える加工方法を検証。
それぞれの加工精度について、まとめています。
(3)シート貼り、ワックスそれぞれのワーク固定に対応した自動加工機構を
搭載したコンパクト・モデルの製作が可能です(仕様に応じ受注生産にて)
(4)チップ化工程の時間とコストを劇的に削減する方法と
その時の精度について、まとめています。
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■超精密グラインダーNSF-600(シート貼り自動加工モデル)
■超精密グラインダーNSF-600(ワックス貼り自動加工モ
デル)
ご興味のある方は、弊社 企画室 杉本・安澤(TEL:0575-46-2323)まで
ご連絡を頂けましたら、幸いです。
また、引きつづき、弊社ではSiCをはじめとする化合物半導体材料のテスト加工を
受付けております。ひとりでも多くの方に、この新しい加工を試して頂きたいと
思っています。
株式会社ナガセインテグレックス
企画室 杉本

















